中国市场被看好,最先进光刻机将入华

中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。

 
ASML (全称: Advanced Semiconductor Material Lithography, 目前该全称己不做为公司标识使用,公司的注册标识为ASML Holding N.V),中文名称为阿斯麦(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。
 
尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德,格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发,但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。
 
此前有消息指出,中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机,预计明年交付,用于7nm节点。
 
同时,传统的沉浸式光刻机方面,沈波称,今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT:2000i,很快会在中国市场上也见到。
 
另外,媒体早先有报道称,长江存储、上海华虹半导体分别向ASML订购了193纳米浸没式光刻机和193纳米双工件台沉浸式光刻机NXT:1980Di,分别用于存储芯片制造、晶圆代工。
 
据悉,ASML今年一二季度的财报显示,大陆市场的销售收入占比达到了20%左右,已与美国持平,且超过了台湾地区。
 
ASML今年的EUV光刻机产能将达到20台,明后两年将逐步提升到40台。

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发布日期:2019年03月03日  所属分类:工业控制