可编程逻辑器件公司altera（位于美国加州的san jose）和半导体制造公司tsmc（位于台湾新竹）共同宣布将进行合作，在今年年底前，用0.13μm工艺和全部金属化层都采用铜的技术生产器件。两公司计划开发一项铜连接线工艺技术提高器件的速度、集成度和性能指标，以满足通信市场的需要。
---- 铜的电阻低；铜连接线的厚度也可以降低。可以减低许多ic器件中的连接线的延迟。产业界越来越迫切需要用铜来取代铝/钨金属化层；采用铜后对于连接线的厚度和节距可以进行适当的折衷。
---- 据altera公司报道，一种用0.18μm工艺技术生产的40万门的实验产品已经获得了相当好的成品率。下一步将采用铜连接线试验0.15μm工艺，接着再以同样的测试芯片试验0.13μm工艺的后段工序。
