本周一，三星宣布了全新的11nm lpp工艺，它将用于三星后续推出的中高端机型。三星在新闻公告中表示，11nm llp的性能相比此前的14nm llp提升了15%，单位面积的功耗降低了10%。
目前三星的14nm llp芯片主要用于2017年版galaxy a系列和j系列手机。三星表示，10nm用于旗舰手机，11nm用于中高端，形成差异化，预计2018年上半年在市场投放。与此同时，三星也成为了市场上最先确认7nm的企业，其7nm lpp定于2018下半年开始试产，采用euv极紫外光刻技术。
三星电子晶圆营销副总裁ryan lee表示：“三星已经在路线图中加入了11nm工艺，为多种应用提供了先进的选项。此举意味着，三星已经完成了全面的芯片工艺路线图的绘制，在未来三年，三星将从14nm到11nm，再到10nm，8nm以及7nm。”而根据今年5月份三星宣布的路线图，他们更长远的目标是做到4nm。
来源：天极网
