全面的芯片工艺路线图的绘制

      本周一,三星宣布了全新的11nm lpp工艺,它将用于三星后续推出的中高端机型。三星在新闻公告中表示,11nm llp的性能相比此前的14nm llp提升了15%,单位面积的功耗降低了10%。

  目前三星的14nm llp芯片主要用于2017年版galaxy a系列和j系列手机。三星表示,10nm用于旗舰手机,11nm用于中高端,形成差异化,预计2018年上半年在市场投放。与此同时,三星也成为了市场上最先确认7nm的企业,其7nm lpp定于2018下半年开始试产,采用euv极紫外光刻技术。

  三星电子晶圆营销副总裁ryan lee表示:“三星已经在路线图中加入了11nm工艺,为多种应用提供了先进的选项。此举意味着,三星已经完成了全面的芯片工艺路线图的绘制,在未来三年,三星将从14nm到11nm,再到10nm,8nm以及7nm。”而根据今年5月份三星宣布的路线图,他们更长远的目标是做到4nm。

来源:天极网

 

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发布日期:2019年07月02日  所属分类:参考设计