系统描述：
本设备用于测量、分析光电探测器、CMOS，CCD等器件的微小局部特性，由于CMOS单位画素尺寸小于50微米，无法以一般的白光光源聚焦到微米等级的光斑，须采用激光光源方能聚焦到微米等级后，因此需要激光光束引致电流扫描图谱仪，测量微小器件的居部特性。
激光光束引致电流扫描图谱仪为精密的光电转换效率量测扫描装置，用于检测光电探测器、CCD、CMOS器件的转换效率、均匀度，光谱响应，量子效率等特性。其组成为激光源、聚焦光路集成系统、精密电动扫描平台、光电流讯号量测系统、控制分析系统及软件等五大部分。
1.激光源部分: 采用高同调性、高能量的激光，作为激发光电探测器器件，引致其产生光电流，本身的光强度不稳定性需≦ 1 %。
2.聚焦光路集成系统: 为多种光学零件(反射镜、镜座、光学滤镜等等)组成之精密光学系统，可导引激光光源到聚焦光学镜组，聚焦后产生微米(micrometer)等级的光点，用以量测光电器件微小局部特性。
3.精密电动扫描平台: 用以载附光电器件作二维移动，以使聚焦光点能在器件表面作扫描量测。
4.光电流讯号量测系统: 聚焦后的光点在入射到器件后，产生光电转换，生成微弱光电流讯号(奈安培到微安培等级)，经过光电转换放大器，锁相放大器测得此光电讯号。
5.控制分析系统及软件: 能控制激光源、光束大小调整、精密电动平台移动、及微弱光电量测四大部分，作器件特性的二为扫描量测，并将量测数据自动作分析及绘制二维及三微的图形显示。
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