该案涉及的专利的专利号为no.6042998，与双重图形光刻技术(double patterning lithography technology)有关，这种技术对于芯片制造非常重要。随着晶体管和其他组件变得越来越小，所有的芯片厂商都在寻找芯片生产新技术。
据stc发表的声明称，已有5家芯片厂商与stc签订了专利使用授权协议，签约厂商包括东芝、三星电子和台积电等。
stc在声明中表示：“stc提出诉讼的目的是为了保护新墨西哥州立大学、专利所有人和被授权人的利益。英特尔未经授权非法使用了我们的专利技术，我们应获得相应的赔偿。”
截止本文发稿，记者未能与英特尔取得联系。
stc表示，它并不想通过法律手段来解决这个问题，但因与英特尔的交涉未能取得令人满意的结果，因此不得不求助于法庭。
stc请求法庭判决英特尔侵犯了它的专利权并向stc支付相应的损失赔偿金。 新墨西哥州立大学专利管理局(以下简称stc)周一在新墨西哥州美国地方法院对英特尔提出起诉，控告英特尔侵犯了它所拥有的一项与高级芯片生产技术有关的专利权。
