tsmc将在日前召开的tsmc技术研讨会上宣布，推出一种面向可制造性设计(dfm)“生态系统”的65纳米设计，以及将工艺模型信息带给无生产厂半导体制造商的通用数据格式。此举有望消除无厂设计公司与idm设计公司之间的差距，idm设计公司可从它们自有的生产厂获取相关工艺信息。
tsmc的65纳米兼容设计支持生态系统的核心是dfm统一格式(duf)，据称能提供光刻工艺检查、关键区域分析及化学机械抛光(cmp)分析需要的所有信息，面向90纳米和65纳米工艺的该设计将于7月推出。
为了使用该格式，eda工具必须经受严格的资格审查，包括精确度测试、可用性和运行时间。已拥有合格工具的供应商包括anchor semiconductor、cadence design systems、clear shape technologies、magma design automation、mentor graphics、ponte solutions、predictions software及synopsys。
tsmc设计服务营销高级总监ed wan表示：“这是一个巨大的进展，我们不仅仅对付工具，而是应对整个生态系统，从而开创了将dfm融入我们设计联盟合作伙伴项目每一个环节当中的局面。”
他表示，此举将服务于tsmc与eda供应商、库和ip提供商以及独立设计中心达成的联盟项目。
