mentor graphics宣布其calibre设计与制造平台的多款工具已通过认证，现已能为ibm、特许半导体(chartered semiconductor)、三星(samsung)的65纳米工艺通用平台，提供具可靠性的可制造设计(dfm)解决方案。
ibm、特许半导体和三星将与mentor密切合作，针对65奈米的common platform技术将calibre lfd最佳化，并提供设计人员一套lfd工具，以支持这三家半导体厂商共同的65纳米工艺。此外common platform亦将利用calibre yieldanalyzer，协助客户达成高良率设计(design-for-yield)；该方案包含各种可制造设计规则，范围涵盖随机性、系统性和参数性等良率损失相关的所有重要领域。
common platform合作厂商已于2005年9月列出在可制造设计方面的策略和发展蓝图，其中特别强调联合开发团队所关注的多项重要领域；该合作旨在解决日益困难的设计收敛问题，包括时序、面积、耗电、讯号完整性和可制造性。
