2007年3月26日，英特尔公司宣布将在大连投资建设一个芯片工厂，这个工厂将是英特尔这个全球半导体行业领袖在亚洲的第一个芯片生产基地。此前，英特尔公司已经在中国的上海浦东和四川成都设有两家封装和测试工厂。
从数量上看，英特尔大连工厂的投资数额为25亿美元，是迄今为止中国引进的最大单笔外商投资之一，并使得英特尔成为在华累计投资额最大的外资企业之一。大连项目之前，英特尔公司在中国已经有了累计13亿美元的投资，而单此次投资就超过其既往投资的总和。
而大连项目的投资质量，更是值得一提。有评论人士指出，这是跨国公司在中国质量最高的项目投资，代表了中国对外开放的新高度，是中国对外开放政策的最新成就。
政策新高度
英特尔此次巨额投资大连，是自身全球战略的需要。中国市场的迅速扩大和中国it产业在全球的地位与日俱增，都要求英特尔公司对中国市场快速反应，把中国纳入全球生产和制造网络。
进一步看，大连工厂有着更加重要的意义，就是反映了中国政府外商投资政策的新高度，即更加注重引进外商投资的质量。作为中国政府政策的一贯支持者和响应者，英特尔在大连建芯片工厂，与中国开放引资的新政策，新导向不谋而合，堪称中国十一五期间的引资典范之作。
中国改革开放20多年来，出于利用外资发展经济的强烈需求，在之前的政府文件中，中国政府通常只提出招商引资的数量要求，对于如何提高招商与引资的质量，调整引资结构，以及如何利用外资的溢出效应等关键问题未予苛求。一度，招商引资数额甚至成为中国地方政府政绩考核的首要指标。
而十一五规划则不仅将中国的开放提到一个新高度，而且把对外资的引进也提到一个新高度、新标准，希望通过政策引导，实现外资从量到质的转变，从资本先行到资质并举的提升。
十一五规划是中国未来五年的指导性、纲领性文件，而这五年恰恰是我国全面建设小康社会的关键时期，具有承前启后的历史地位，因此，其重要性无以复加。
在这份共计只有14篇的规划中，开放战略被列为独立的一篇，即第九篇，《实施互利共赢的开放战略》。把利用外资作为三章中单独的一章，将外资质量问题提到前所未有的高度。规划指出：“要抓住国际产业转移机遇，继续积极有效利用外资，重点通过利用外资引进国外先进技术、管理经验和高素质人才，把利用外资同提升国内产业结构、技术水平结合起来。”
在十一五规划同一章《提高利用外资质量》的第二节“促进利用外资方式多样化”中，开头就写道：“引导国内企业同跨国公司开展多种形式的合作，发挥外资的技术溢出效应。”
新规划出台后，2006年11月，国家发展改革委员会还根据十一五规划，细化出了一个“利用外资的十一五规划”，制定了“十一五”期间我国利用外资的指导思想、战略目标、重点任务及相应的政策措施。
