20日，三星电子副会长李在�F视察了该公司首条基于极紫外光刻(EUV)技术的晶圆生产线V1。期间，李在�F再次明确，将在2030年使三星电子成为逻辑芯片领域的世界第一。
据BusinessKorea报道，三星电子指出，李在�F在昨日参观了该工厂的EUV生产线后，与DS业务部门的总裁进行了实地会晤。三星设备解决方案部门（DS）包括半导体和显示器两大重要产品线，此次会晤似乎也显示出李在�F势在必得的决心。
据了解，V1产线于2018年2月动工，投资约60亿美元，若未来全线建成，预计总投资将达到20万亿韩元。
“V1包含了紫外光线（UltraViolet）和胜利（Victory）的意思，”三星电子的一位高管称。“我们计划根据未来的市场情况对V1线进行额外投资。”
与此同时，三星电子判断，掌握EUV工艺对于紧跟台积电至关重要。因为利用短波紫外线光源在晶圆上雕刻半导体电路，与ArF方法相比，先进的工艺可以制造出更精细的电路，适用于10纳米以下的超精细工艺，是制备高性能、低功耗半导体的关键。
在三星电子该条V1产线上，除了生产7纳米芯片外，还将生产5纳米和3纳米半导体。据悉，从2月初开始量产的7纳米产品将于3月份交付全球客户。
李在�F当天还对员工们表示，“去年，我们播下了成为系统半导体龙头的目标的种子，而今天，我们率先实现了这一目标。”
