公司简介
苏州瑞红是国内微电子化学品行业最大的专业工厂之一,是苏州电子材料集团和日本Zeon公司及丸红公司于1993年成立的合资公司。公司主要生产光刻胶、配套试剂、高纯化学试剂等黄光区湿化学品，应用于FPD(LCD、TP、OLED、CF)、LED、IC等相关电子行业，与国内大部分相关厂商保持业务联系。
苏州瑞红厂区面积15000m2，厂房6000m2，洁净房400m2，拥有100级净化罐装线。公司拥有国内一流的光刻胶检测评价装置，符合现代微电子化学品概念的净化管理，一批经验丰富的技术队伍。
苏州瑞红先后承担过国家“85公关”项目、科技部创新基金项目、“863”重大专项，国家级重大专项02项目等，拥有数项国家发明专利和高新技术产品，是江苏省高新技术企业。
近年来，随着国内电子行业的不断发展，苏州瑞红利用自己的优势，紧跟时代潮流，在现有基础上不断投入，加快新产品引进和研发，不断提高品质保证能力，为客户提供更多的产品选择、更快速的服务响应、更稳定的产品质量。
产品目录
集成电路、半导体器件
负性光刻胶RFJ-210
负性光刻胶RFJ-220
负胶显影液RFX-2277
负胶漂洗液RFP-2202
负胶显影漂洗液RFH-2200
剥离液RBL-2304
清洗剂RFQ-2150
增粘剂RZN-6200
正性光刻胶RZJ-304
正性光刻胶RZJ-306
正胶显影液RZX-3038
正胶剥离液RBL-3368
TP产品
正性光刻胶RZJ-390PG
正性光刻胶RZJ-2500
背面保护胶RZJ-305
正胶显影液RZX-3038S
正胶剥离液RBL-3316
正胶剥离液RBL-3310
正胶稀释剂RZR-3100
清洗剂RZQ-3070
铝刻蚀液RSK-3003
铜铝刻蚀液RSK-3004
铜刻蚀液RSK-3002
增粘剂RZN-6200
OLED产品
正性光刻胶RZJ-2500
正胶显影液RZX-3038
正胶显影液RZX-3302
正胶剥离液RBL-3370
清洗剂RZQ-3070
铜铝刻蚀液RSK-3004
增粘剂RZN-6200
LED产品
正性光刻胶RZJ-304
正性光刻胶RZJ-306
光刻胶RPN-1150
正胶显影液RZX-3038
正胶显影液RZX-3308
正胶剥离液RBL-3318
正胶剥离液RBL-3368
正胶稀释剂RZR-3100
清洗剂RZQ-3070
增粘剂RZN-6200
TFT产品
正性光刻胶RZJ-2600H23
正性光刻胶RZJ-3200
正胶显影液RZX-3025
正胶剥离液RBL-3310
清洗剂RZQ-3070
铜铝刻蚀液RSK-3004
铬刻蚀液RSK-3005
增粘剂RZN-6200
LCD产品
正性光刻胶RZJ-390PG
正性光刻胶RZJ-390H
正胶稀释剂RZR-3100
清洗剂RZQ-3070
常规高纯试剂
丙酮：电子级、MOS级
乙二醇丁醚（EGME）：电子级
甲基异丁基甲酮（MIBK）：电子级
正庚烷：电子级
丁酮：电子级
醋酸丁酯（n-NA）：电子级、MOS级
无水乙醇：电子级、MOS级
异丙酮（IPA）：电子级、MOS级
N-甲基吡咯烷酮（NMP）：电子级、MOS级
产品展示
正性光刻胶
正性光刻胶RZJ-306
正性光刻胶RZJ-3200
正性光刻胶RZJ-304
正性光刻胶RZJ-390H
正性光刻胶RZJ-390PG
负性光刻胶
负性光刻胶RFJ-210
负性光刻胶RFJ-220
配套试剂
其他
增粘剂RZN-6200
正胶稀释剂RZR-3100
边胶清洗剂RZQ-3050
清洗剂RZQ-3070
负胶显影液RFX-2277
负胶漂洗液RFP-2202
负胶显影漂洗液RFH-2200
剥离液RBL-2304
清洗剂RFQ-2150
刻蚀液系列
RSK-3003系列
RSK-3004系列
ITO刻蚀液系列
RSK-3005系列
RSK-3007系列
正胶剥离液系列
RBL-3316
RBL-3368
正胶显影液系列
RZX-3038
RZX-3302
RZX-3308
RZX-3300
RZX-3320
高纯试剂
丙酮：电子级、MOS级
乙二醇丁醚（EGME）：电子级
甲基异丁基甲酮（MIBK）：电子级
正庚烷：电子级
丁酮：电子级
醋酸丁酯（n-NA）：电子级、MOS级
无水乙醇：电子级、MOS级
异丙酮（IPA）：电子级、MOS级
N-甲基吡咯烷酮（NMP）：电子级、MOS级
发明专利(3)
ZL 2009 1 0026138.8
质保体系证书
ISO9001
ISO14001
