什么是金属膜反射技术？

透明衬底技术首先起源于美国的hp、lumileds等公司，而对金属膜反射法进行的
大量研究与发展主要是由日本、中国台湾地区的厂商进行的。这种技术不但回避了透
明衬底专利，而且更利于规模生产。其效果可以说与透明衬底法具有异曲同工之妙。
该技术通常称为mb制程。其过程为：首先去除gaas衬底，然后在其表面与si基底
表面同时蒸镀金属膜，最后在一定的温度与压力下将其熔焊在一起。从发光层照射到
基板的光线被金属膜层反射至芯片表面，从而可使器件的发光效率提高2.5倍以上。