mentor graphics公司（纳斯达克代码：ment）今天宣布，借由完成 tsmc 10 纳米finfet v1.0 认证，进一步增强和优化calibre®平台和analog fastspice™ (afs)平台。除此之外，calibre 和 analog fastspice 平台已可应用在基于tsmc 7 纳米 finfet 工艺最新设计规则手册 (drm) 和 spice 模型的初期设计开发和 ip 设计。
为协助共同客户能准备好使用先进工艺做设计，mentor 为tsmc 10 纳米工艺改进物理验证工具，加速calibre nmdrc™ sign-off 工具的运行时间，使其优于去年初针对 10 纳米精确度进行认证时的工具运行时间。calibre nmlvs™ 工具已可支持10纳米工艺中新的组件参数抽取，以获取更精准的 spice 模型和自热仿真。同时，mentor 还提升了calibre xact™ 解决方案的寄生参数精确度，并积极改善布局寄生参数抽取流程以满足 10 纳米技术的要求。
calibre 平台还可帮助设计工程师提高设计可靠度和可制造性。在为 10 纳米工艺电阻和电流密度检查做了技术的改进后，现在 tsmc倚赖 calibre perc™ 可靠性验证解决方案做可靠度确认。在可制造性设计 (dfm) 方面，mentor 添加了色彩感知填充和更精密的对齐和间距规则在calibre yieldenhancer 工具的smartfill 功能中。此外，mentor 还优化了calibre designrev™协助芯片最后完工工具、calibre rve™ 结果查看器和calibre realtime 界面，为设计工程师在多重曝光、版图布局与电路图 (lvs) 比较以及电气规则检查 (erc) 及可靠性验证方面提供更容易整合和除错功能。
如今，mentor 和 tsmc 携手合作，将 calibre 平台的多样化功能应用至 7 纳米finfet 工艺中。calibre nmdrc 和 calibre nmlvs 工具已通过客户早期设计的验证。tsmc 和 mentor 正扩大 smartfill 和 calibre 多重曝光功能的使用功能，为 7 纳米的工艺需求提供技术支持。
为获得快速、准确的电路仿真，tsmc 认证afs 平台，包含 afs mega 电路仿真器可用于tsmc 10 纳米 v1.0 工艺。afs 平台还通过了最新版 7 纳米drm和 spice 可用于早期设计开发。
为支持10 纳米工艺先进的设计规则，mentor 增强了包括olympus-soc™ 系统在内的布局布线平台，并且优化其结果能与sign-off 参数抽取和静态时序分析工具有相关性。这项优化也扩展至7 纳米工艺。
“我们将继续与 mentor graphics 合作，提供设计解决方案和服务于我们的共同客户，帮助他们在 7 纳米工艺设计方面获得成功，” tsmc 设计建构营销部资深处长 suk lee说。“通过携手合作，我们能支持10 纳米设计实现量产。”http://xpc009.51dzw.com/
“现今杰出的 soc 设计工程师要能掌握最先进的工艺，需要晶圆代工厂和 eda 供货商两者之间的紧密合作，”mentor graphics design to silicon 事业部副总裁兼总经理 joe sawicki 表示。“对于 tsmc 在其未来的生态系统策略上能继续利用已经证明具有高质量、高性能和全面性的mentor 平台，我们感到非常荣幸。”
