日前，据称应用材料公司(applied materials inc)和varian semiconductor equipment associates inc都悄然推出新的离子注入机(ion implanter line)。分析师表示，两家公司的首台设备都在英特尔进行评估，争夺45纳米节点离子注入设备订单。
英特尔决定其45纳米节点高速流离子注入机的过程已进入尾声，pacific crest securities inc分析师mark bachman表示，应用材料的quantum x plus和varian的viista hci进入了候选阵容。
据报道，应用材料和varian在几个季度之前分别将各自的设备提供给英特尔，但两家芯片设备供应商甚至还没有公开宣布推出产品。bachman说，英特尔的流离子注入机订单价值为6,600万-9,200万美元之间。通常，每座晶圆厂大致需要22套流离子注入设备。他补充到，英特尔计划最多建设两座45纳米节点晶圆厂。
当前，英特尔同时使用应用材料和varian的流离子注入机。这位芯片巨人在65纳米节点高速应用方面采用了应用材料的quantum x，而在65纳米中速和高能应用主要使用varian公司的流离子注入机。
预计英特尔将最终选用varian的45纳米中速流离子注入机，但是高速业务还未决定。bachman认为，varian有可能从应用材料手中攫取英特尔的部分高速应用订单。bachman说，“我们相信，varian有可能赢得英特尔45纳米高速注入机50-70%的订单，尽管应用材料推出更具竞争力的价格。”
如果varian夺取了英特尔的部分高速业务订单，将对应用材料带来沉重打击，后者是这家芯片巨人的高速注入机供应商。
2004年，应用材料携quantum x杀入单晶圆流离子注入机市场，这款高吞吐量设备据称功率范围介于200ev到80kev。该设备代表了应用材料的策略改变，也宣告进入了基于批量处理技术的流离子注入机时代。到目前为止，应用材料已付运了总共约100台quantum x设备，bachman说，“英特尔是主要买家，我们统计光英特尔就采购了65台高速业务设备。”
他表示，“我们大致了解到，amd、美光、富士通、台积电(tsmc)、特许半导体和三星也购买了该设备。在45纳米节点领域，如果应用材料丢掉英特尔这个主要客户，将对该公司这部分业务造成打击，目前这部分业务占应用材料总体收入不到5%。”
为了保住在英特尔和其它公司的订单，应用材料推出了quantum x plus。据称这款单晶圆工具是quantum x的更新和改进版本，具有更快的灌注能力。竞争对手varian则凭借新的viista hci工具来竞争英特尔这个大客户，“此外，varian还有可能从日本从日本nec、东芝和索尼手中获得新订单。从应用材料手中夺走台积电订单后，证明varian的产品具有相当竞争力。” 据称，viista hci是高速离子注入设备viista hc的更新版本。viista hc于2005年推出，据varian表示功率范围为200ev到60kev。
目前，varian已成为全球最大的高速离子注入设备供应商。bachman表示，2004年axcelis technologies是这个领域的领导厂商，拥有40%份额，应用材料以38%紧随其后，varian市场份额为22%。
而到了2005年，varian在高速领域的市场份额达到38%，其后是应用材料35%， axcelis份额跌至27%。他说，“axcelis在进军单晶圆工具市场步伐缓慢。”
展望未来，所有供应商都将面临挑战，离子灌注设备在32纳米节点需要进行技术革新，这促使众厂商不遗余力开发新技术。bachman表示，目前应用材料、axcelis、nissin和varian具备45纳米节点技术，能否更近一步是未来成功的标志。
