光刻设备商争相发展EUV技术 ASML Canon Nikon公布发展路图

近期举行的spie先进光刻技术会议上，asml、canon和nikon相继介绍了他们各自的极紫外（euv）光刻技术发展路途。

　　spie会上，众尖端芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用euv技术。目前为止，对于22纳米节点，除了euv技术之外别无选择。

　　目前，众多设备厂商均争相发展euv技术，力求取得领先地位，占得先机。