意法半导体(st)的首席执行官carlobozotti日前对分析师表示，意法半导体将与“业内领导厂商”结盟，以获得32纳米cmos工艺，并将其用于自己的晶圆厂和作为专门扩展的平台。bozotti没有说哪家厂商将向其提供32纳米cmos平台，但他表示：“显然我们有替代方案。”
目前意法半导体在与台积电合作。台积电是crolles2研发合作项目中意法半导体、飞思卡尔半导体及nxp的准合作伙伴。
在与分析师一起召开的一个电话会议上，bozotti表示crolles2联盟将在2007年完成45纳米cmos工艺技术的开发，但随后这个位于法国crolles的研发中心及试点工厂的作用将进入一个中断期。
bozotti表示，由于开发32纳米cmos制造工艺技术的成本不断上升，意法半导体已决定进口先进的cmos，然后意法半导体将利用crolles研究设施来开发衍生的自有技术，这些技术对于它的无线业务部门非常重要。bozotti介绍说，将在crolles开发的技术包括图像传感器、射频与基本cmos的模拟扩展。
bozotti表示：“这是策略上的明显变化，但crolles仍将是先进技术的关键开发中心，而在cmos方面，我们将与业内领导厂商结盟，并确保该技术可用于我们的设施之中。”
bozotti没有具体说明，crolles是否将再度由意法半导体独自使用，或者寻求其它伙伴合作开发工艺模块扩展。
