半导体工艺遇瓶颈:0.13微米合格率不稳定,90纳米问题更多

半导体工艺技术在0.13微米工艺上遇到了麻烦,尽管许多公司宣称0.13微米工艺已经运行了两年,从整个产业来看其合格率仍然不足。actel公司的总裁暨ceo john east说:“0.13微米的合格率和成本仍然不稳定,90纳米(0.09微米)的问题更多。”

  cadence公司负责研究和高级开发的高级副总裁ted vucurevich认为90纳米技术将在2004年开始批量设计,而且是fpga。synopsys公司负责纳米分析和测试部的高级副总裁暨总经理anton domic同意vucurevich的观点,认为2004年将出现批量的non-fpga芯片。甚至工艺技术的领袖台积电(tsmc)对90纳米的规划也是2004年。

  虽然在整个20世纪90年代,工艺技术加速发展,每18个月就出现新一代的工艺,而现在的速度放慢了。east透露,为了提高合格率,降低成本和价格,科学家正在使用低k和高k电介质以及应变硅完善新技术。east补充说:“低k电介质把我吓得要死,应变硅也会出现合格率低和基板成本高的问题。”

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发布日期:2019年07月02日  所属分类:参考设计