据ee times报导，fab 42启用后，会将目标瞄准7纳米制程， 并可望在3~4年内创造3,000个高科技、高薪资的工作机会。尽管英特尔尚未透露将于哪个时间点开始采用euv微影技术，ic insights分析师认为，euv微影将是英特尔7纳米成功的关键，因此英特尔很可能趁着重启fab 42的机会，引进euv设备。
lineback指出，英特尔需要通过这项消息，让外界知道其先进制程并未落后于台积电或三星电子(samsung electronics)。尽管英特尔其他晶圆厂也会在2020年前投入7纳米制程，但fab 42将是英特尔首个7纳米量产晶圆厂。此外，在收购altera的业务后，fab 42也可能被英特尔用来从事fpga生产。
美国前总统欧巴马(barack obama)曾称fab 42象征着美国制造的未来，但fab 42厂房自2013年底落成后，便一直处于闲置状态，原因就在于市场没有出现足够的需求。
fab 42原本是为了发展14纳米制程所打造，然而英特尔的tick-tock机制并未能赶上2年一次的更新周期，且其智能手机处理芯片的发展也不尽理想，再加上pc市场萎缩，以及14纳米制程良率问题，都导致fab 42迟迟无法启用。尽管英特尔称霸了服务器市场，但服务器对于矽芯片并没有太多的需求。
然而有鉴于低功率运算装置的物联网相关需求将在未来3~4年内快速成长，fab 42也有了上场的机会。不过insight-64分析师仍强调，在pc市场不断衰退之际，安装euv设备应才是英特尔重启fab 42的主要目的。
英特尔将于2017年从14纳米步入10纳米制程。到了2020年时，fab 42所安装的euv曝光设备产出，就可望追赶上制程发展的脚步。
英特尔执行长brian krzanich曾在一封给员工的信中表示，fab 42所采用的7纳米制程将是全世界最先进的半导体制程技术，并代表了摩尔定律(moore’s law)的未来。英特尔的7纳米制程芯片将被运用在最复杂的电脑、资料中心、传感器与其他高科技装置上，推动人工智能(ai)、先进车辆、交通服务、医疗研究等领域的发展，而这需要摩尔定律能有所提升。
英特尔发言人指出，投资在fab 42晶圆厂的70亿美元经费中，有很大一部分会运用在工具及设备系统上。除了euv微影设备外，fab 42的7纳米制程也将需要光罩生产、检验设备、cmp、蚀刻、晶圆清洗等工具设备。分析师指出，为了掌握7纳米制程ic的优势，后端的封装、组装都需有进一步发展。
为响应川普(donald trump)新政，英特尔(intel)宣布将投入70亿美元重启位于亚历桑纳州的fab 42晶圆厂。分析师认为，英特尔启用fab 42的主要目的或许不在于扩大产能，而是要引进7纳米制程所需的极紫外光(euv)设备。
